上倉一男 on Instagram: "【日本の先端研究技術の中国への流失ーとりわけ「フォトレジスト」開発研究者への超好待遇による中国からの引き抜き】 フォトレジストとは フォトレジスト（Photoresist）は、半導体や電子部品の製造における「フォト工程（フォトリソグラフィ）」で、シリコンウェハー上に微細な回路パターンを転写するために不可欠な感光性樹脂（感光液）です。 光に反応して性質（溶解性）が変化する液体で、光を当てた部分が溶ける「ポジ型」と、残る「ネガ型」の2種類があり、微細な回路の「版」として機能します。 ＃フォトレジスト ＃中国 ＃引き抜き"